Авторы: А.А. Клепцов, Л.Н. Клепцова

Название статьи: Методика параметрической оптимизации технологических процессов при обеспечении характеристик поверхностного слоя деталей

Год: 2020, Номер: 4, Страницы: 9-17

Отрасль знаний: 05.02.08 Технология машиностроения

Индекс УДК: 621.91.01

DOI: 10.26730/1999-4125-2020-4-9-17

Аннотация: При обработке деталей основное внимание, как правило, уделяется достижению точности, тогда как другие показатели качества, такие как характеристики состояния поверхностного слоя деталей, определяющие их износостойкость и надежность, остаются без внимания. Для получения деталей, наиболее полно отвечающих своему служебному назначению, необходимо не только стремиться к достижению заданной точности, но и обеспечивать определенное качество поверхностного слоя.
При изготовлении любой детали существует несколько вариантов технологического процесса, обеспечивающих требуемую точность и качество поверхностного слоя. В этой связи актуальной задачей технологии машиностроения является оптимизация технологических процессов по всем этапам их разработки, в частности, параметрическая оптимизация.
В статье предложена методика оптимизации технологических процессов механической обработки деталей, позволяющая назначить оптимальные по себестоимости режимы обработки деталей, обеспечивающие заданную точность обработки деталей, шероховатость и физико-механические характеристики качества их поверхностей. Обосновано использование технологической себестоимости в качестве критерия оптимизации.
Для реализации методики разработаны алгоритм и программное обеспечение, позволяющие снизить время проектирования технологических процессов и себестоимость обработки деталей и повысить объективность технического нормирования.
Приведен вариант использования предложенной методики при нормировании технологического процесса детали типа «тело вращения».

Ключевые слова: технологический процесс оптимизация точность шероховатость себестоимость критерий ограничения режим обработки

Дата получения: 12.08.2020

Дата опубликования: 30.10.2020

ЦИТИРОВАНИЕ СКАЧАТЬ